Los fabricantes chinos de chips han solicitado al gobierno crear una analítica nacional para ASML.

Líderes chinos de la industria de semiconductores abogan por una coordinación nacional para el desarrollo de la litografía EUV (2026–2030)

En un artículo publicado en una edición especial, los altos directivos de las mayores empresas chinas del sector de microfabricación presentaron un plan conjunto. El objetivo es sincronizar los esfuerzos para desarrollar sistemas de litografía y así aumentar la independencia tecnológica del país.

Quién hablóResumen breve del discursoZhao Jingzhun (Naura Technology Group)Abogó por unir recursos nacionales para integrar avances obtenidos en diferentes instituciones.Chen Nansyan (Yangtze Memory Technologies Corp.)Consideró necesario crear una “ASML china” para superar la barrera de suministros externos y aumentar la autosuficiencia.Liu Weiping (Empyrean Technology)Destacó la importancia de distribuir fondos y recursos humanos para crear una empresa integrada.Representantes de los principales institutos de la industria de semiconductores señalaron las debilidades clave: software de automatización de diseño, materiales de obleas de silicio y tecnologías de gases.

Por qué es tan importante ahora
* Las restricciones de exportación de EE UU (desde 2020) limitan el acceso de China a tecnologías por debajo de 7 nm, haciendo que la litografía EUV sea críticamente importante.

* ASML es el único proveedor mundial de máquinas para litografía EUV. El equipo consta de 100 000 componentes de 5 000 proveedores; ASML simplemente los monta.

* Avances internos: China ha logrado éxitos significativos en áreas específicas (láseres EUV, fabricación de obleas de silicio, sistemas ópticos), pero integrar estas tecnologías sigue siendo un desafío complejo.

Áreas clave de trabajo
1. Crear una plataforma única para investigación y desarrollo de dispositivos y componentes avanzados.
2. Desarrollar software para la automatización del diseño electrónico.
3. Fortalecer la ciencia de materiales: producción de obleas de silicio de alta calidad y gases necesarios para la litografía EUV.
4. Establecer coordinación nacional dentro del plan quinquenal (15.º Plan Quinquenal).

Evaluación de la situación actual
* China ocupa alrededor del 33 % del mercado mundial de microfabricación en procesos maduros (28 nm y superiores).
* En estos segmentos, el país tiene un potencial significativo tanto en diseño como en producción.

En conclusión, los expertos exigen que el gobierno desarrolle urgentemente planes para integrar todos los componentes clave de la litografía EUV. Esto permitirá crear una “ASML” propia y garantizar la independencia de China en tecnologías críticas de microfabricación.